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      • MGD20-20高低溫恒溫循環槽
        MGD20-20高低溫恒溫循環槽

        高低溫恒溫循環槽(-20℃~180℃),MGD20-20實現高溫195℃,低溫-20℃恒溫測試,為用戶提供熱冷受控,溫度均勻恒定的場源,也可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源,整個量程范圍的溫度精確控制,恒溫波動度達到±0.1℃, 應用于石油化工、制藥等化學反應工藝過程控制,半導體擴散爐擴散工藝控制,對反應釜、全自動合成儀器、萃取以及冷凝裝置的恒溫控溫或外循環應用。

        更新時間:2022-06-15型號:MGD20-20
      • G200系列高溫恒溫槽
        G200系列高溫恒溫槽

        高溫恒溫槽用于產品性能分析測試、計量檢定、化學反應工藝過程控制、普通溫度計及其它溫度測量儀表制造中的定標用途。

        更新時間:2022-06-16型號:G200系列
      • MGD20-30高低溫恒溫循環槽(-20℃~180℃)
        MGD20-30高低溫恒溫循環槽(-20℃~180℃)

        高低溫恒溫循環槽(-20℃~180℃),MDG20-30實現高溫195℃,低溫-20℃恒溫測試,為用戶提供熱冷受控,溫度均勻恒定的場源,也可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源,整個量程范圍的溫度精確控制,恒溫波動度達到&#177;0.1℃, 應用于石油化工、制藥等化學反應工藝過程控制,半導體擴散爐擴散工藝控制,對反應釜、全自動合成儀器、萃取以及冷凝裝置的恒溫控溫或外循環應用。

        更新時間:2020-06-30型號:MGD20-30
      • MD20-30I低溫小型恒溫水槽(-5℃~90℃)
        MD20-30I低溫小型恒溫水槽(-5℃~90℃)

        低溫小型恒溫水槽(-5℃~90℃)MD20-30I提供熱冷受控,溫度均勻恒定的場源,可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源,整個量程范圍的溫度精確控制,恒溫波動度±0.05℃。

        更新時間:2022-06-16型號:MD20-30I
      • MGD40-12高低溫恒溫槽
        MGD40-12高低溫恒溫槽

        高低溫恒溫槽MGD40-12為用戶提供熱冷受控,溫度均勻恒定的場源,也可作為直接加熱、制冷、輔助加熱、輔助制冷的熱源或冷源, 應用于-40℃~180℃(高至溫度195℃)石油化工、制藥等化學反應工藝過程控制,半導體擴散爐擴散工藝控制,對反應釜、全自動合成儀器、萃取以及冷凝裝置的恒溫控溫或外循環應用

        更新時間:2021-05-11型號:MGD40-12
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